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ITO膜激光蝕刻機
ITO( Indium Tin Oxides)(ITO膜激光蝕刻機)--納米銦錫金屬氧化物,通常叫氧化銦錫。因其良好的導電性、透明性及防電子輻射性能,被噴涂在塑料、玻璃上,形成銦錫氧化物半導體透明導電薄膜。廣泛應用手機、車(chē)載導航平板電腦,有特殊高傳輸要求的各類(lèi)電阻,電容
  ITO膜激光蝕刻機
ITO( Indium Tin Oxides)(ITO膜激光蝕刻機)--納米銦錫金屬氧化物,通常叫氧化銦錫。因其良好的導電性、透明性及防電子輻射性能,被噴涂在塑料、玻璃上,形成銦錫氧化物半導體透明導電薄膜。廣泛應用手機、車(chē)載導航平板電腦,有特殊高傳輸要求的各類(lèi)電阻,電容觸摸屏和太陽(yáng)能行業(yè)等。我公司針對市場(chǎng)需求開(kāi)發(fā)出ITO激光蝕刻機系列產(chǎn)品,對表面導電膜層進(jìn)行激光蝕刻氣剝離,以滿(mǎn)足不同用戶(hù)的需求。 該產(chǎn)品采用原裝進(jìn)口激光器,德國高精度數字振鏡及高精度數控工作臺。整機采用一體化設計,配備一體式高精度激光器,結構緊湊,占地面積小,性能穩定,基本實(shí)現免維護。采用進(jìn)口運動(dòng)控制軟件 ,整個(gè)操作過(guò)程采用電腦控制輸入、輸出、且操作簡(jiǎn)單方便。與目前市場(chǎng)使用的濕式酸堿蝕刻線(xiàn)設備相比,工藝非常簡(jiǎn)單,不需要純水,酸堿液,清洗等工藝,因此性能更穩定,效率更高、性?xún)r(jià)比更優(yōu)。為觸摸屏行業(yè)提高穩定、高效、環(huán)保、合格率高的干蝕刻工藝從而徹底取代傳統的濕蝕刻工藝。
 

樣品展示

ITO膜激光蝕刻機打樣樣品展示

技術(shù)特點(diǎn)

· ITO激光蝕刻機具有以下優(yōu)點(diǎn): 激光蝕刻機加工重復定位精度高,速度快;

· 加工邊緣整齊、光滑,而且一致性極好。

· 工藝簡(jiǎn)單,將傳統4道工序縮減到一道工序全自動(dòng)控制。非接觸加 工,一步蝕刻到位,產(chǎn)品的合格率極大地提高,可實(shí)現批量生產(chǎn)。 無(wú)需使用任何化學(xué)溶劑,對無(wú)塵室環(huán)境無(wú)污染;

· 激光刻線(xiàn)及一次性投入,終身免維護,品質(zhì)一致性強,大大降低 對傳統蝕刻技術(shù)員工的技術(shù)依賴(lài). 激光刻線(xiàn)機性能穩定維護量低,平均無(wú)故障使用時(shí)間可達5萬(wàn)小時(shí)以上,耗電低,

· 一個(gè)操作人員即可?;瘜W(xué)蝕刻機耗電、水、化學(xué)腐蝕劑量大,需經(jīng)常維護,人員工作量大;

· 激光刻線(xiàn)機可縮短工藝制程,減少不良項產(chǎn)生(蝕刻白點(diǎn)、水霧、片堿殘留、滾輪?。┨岣呱a(chǎn)良率。

· 激光刻線(xiàn)機制程加工穩定,操作簡(jiǎn)單(減少蝕刻不良:阻值高,阻值低,絕緣不良)和傳統的化學(xué)蝕刻相比,軟件編輯電路,因此做樣工藝簡(jiǎn)單,速度快,成本低;產(chǎn)品合格率高于95%。

· 激光刻線(xiàn)機解決了玻璃基材激光刻蝕的高效率、高質(zhì)量的技術(shù)和工藝問(wèn)題。


應用領(lǐng)域

可用于電源、電子元器件、傳感器、厚膜和薄膜電路的電阻精密調節.


產(chǎn)品參數

項目名稱(chēng) 技術(shù)參數
 機器型號  CX-SK30
 激光波長(cháng)  355nm /1064nm
 激光器  定制激光器
 最大激光功率  3W/5W/8W|20W/30W
 工作方式  多頭拼接
 工作范圍  500mm×500mm(標配)
 最大工作線(xiàn)速  3000mm/s
 最小線(xiàn)寬  0.02mm
 RZ粗糙值  ≤0.02mm
 重復精度   ±0.01mm
 最小聚焦光斑  0.02mm
 定位方式  自動(dòng)
 整機供電  2Kw/AC220V/50Hz
 冷卻方式  風(fēng)冷
 整機尺寸(L×W×H)  1100×1100×1900mm